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真空镀膜的物理过程

发布日期:2020-11-09 14:43:54
信息摘要:
  真空镀膜的物理过程  真空镀膜厂家总结如下:  PVD(物理气相沉积技术)的基本原理可分为三个工艺步骤:  (1)镀料的气化:即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源  (2)镀料粒子((原子、分子或离子)的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞,产生多种反应。  (3)镀料粒子在基片表面的沉积  泰州祺欣模

  真空镀膜的物理过程

  真空镀膜厂家总结如下:

  PVD(物理气相沉积技术)的基本原理可分为三个工艺步骤:

  (1)镀料的气化:即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源

  (2)镀料粒子((原子、分子或离子)的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞,产生多种反应。

  (3)镀料粒子在基片表面的沉积

  泰州祺欣模塑制品有限公司,是一家面向全市场的真空镀膜厂家喷漆镀膜加工企业。公司镀膜加工业务涉及钟表、珠宝、手机、飞机零配件、工模具等领域,在装饰膜及功能膜的真空镀膜上有着成熟的工艺技术和丰富的生产经验。经过多年的发展,祺欣模塑在生产规模和技术上均处于成熟阶段。

  

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  薄膜的形成顺序为:具有能量的原子被吸附→形成小原子团→临界核→小岛→大岛→岛结合→沟道薄膜→连续薄膜。因此薄膜的形成过程可分为四个阶段;临界核的形成;岛的形成、长大与结合;沟道薄膜的形成和连续膜的形成。

  真空镀膜的工艺流程

  真空镀膜的工艺流程一般依次为:前处理及化学清洗(表面打磨抛光喷砂,除锈除油去氧化层)→工件在真空中烘烤加热→氩离子辉光清洗→金属离子轰击→镀金属过渡层→镀膜(通入反应气体)→后处理(炉内钝化或出炉后钝化去应力或防止变色,过UV做防指膜处理等)。

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